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10纳米制程:修订间差异

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{{半導體製程}}
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'''10[[纳米]]制程'''是[[半导体]]制造[[制程]]的一个水
'''10[[纳米]]制程'''是[[半导体]]制造[[制程]]的一个水


==歷史==
==歷史==

2020年8月25日 (二) 10:58的版本

10纳米制程半导体制造制程的一个水準。

歷史

三星電子聯發科在2017年推出10纳米器件,三星電子的Exynos 9 Octa 8895高通Snapdragon 835是首批量產供貨的10nm晶片產品,於第一季問世。

蘋果公司於2017年尾發表的Apple A10X(第二代iPad Pro)和Apple A11iPhone 8iPhone X)均由台積電10nm FinFET製程生產。

英特尔於2018年推出了第一款10nm製程的處理器,採用Cannon Lake微架構。 但此微架構僅有一款筆電處理器——i3-8121U。由於預期性能及研發難度超越他廠的同名稱製程,因此桌上電腦和伺服器級處理器推遲至2020年以後。[1]2019年第三季,英特尔推出了第二代10nm製程處理器,採用Ice Lake微架構。這次發表的處理器全部是筆電處理器。

三星將後續優化的製程命名為8奈米,以融入了部分7奈米製程繼續為特點,於2018年量產。[2]

在10纳米中,金属的宽度为40至50纳米,[3]其后继制程是7纳米。

参考文献

先前
14纳米制程
半导体器件制造制程 其後
7纳米制程