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- قياس خط النقل أو قياس طول التحويل هي تقنية مستخدمة في فيزياء أشباه الموصلات والهندسة لحساب مقاومة التلامس بين المعدن وأشباه الموصلات. الطريقة تتضمن إحداث سلسلة من التلامس بين المعدن وشبه الموصل متباعدة بمسافات مختلفة. (ar)
- Die Transfer Line Methode (auch Transferlängen-Methode oder Transferlängen-Messung) ist ein Verfahren aus den Halbleiter- und Werkstoffwissenschaften und bezeichnet die Messung des Kontaktwiderstands mit Hilfe einer zweidimensionalen Teststruktur. Das Verfahren wurde erstmals 1964 von dem Physiker William Shockley eingeführt. Es ist heutzutage ein oft verwandtes Verfahren, um die Übergangswiderstände von Halbleiter- und Metallschichten in zum Beispiel der Mikrosystemtechnik zu bestimmen. (de)
- The Transfer Length Method or the "Transmission Line Model" (both abbreviated as TLM) is a technique used in semiconductor physics and engineering to determine the specific contact resistivity between a metal and a semiconductor. TLM has been developed because with the ongoing device shrinkage in microelectronics the relative contribution of the contact resistance at metal-semiconductor interfaces in a device could not be neglected any more and an accurate measurement method for determining the specific contact resistivity was required. (en)
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- قياس خط النقل أو قياس طول التحويل هي تقنية مستخدمة في فيزياء أشباه الموصلات والهندسة لحساب مقاومة التلامس بين المعدن وأشباه الموصلات. الطريقة تتضمن إحداث سلسلة من التلامس بين المعدن وشبه الموصل متباعدة بمسافات مختلفة. (ar)
- Die Transfer Line Methode (auch Transferlängen-Methode oder Transferlängen-Messung) ist ein Verfahren aus den Halbleiter- und Werkstoffwissenschaften und bezeichnet die Messung des Kontaktwiderstands mit Hilfe einer zweidimensionalen Teststruktur. Das Verfahren wurde erstmals 1964 von dem Physiker William Shockley eingeführt. Es ist heutzutage ein oft verwandtes Verfahren, um die Übergangswiderstände von Halbleiter- und Metallschichten in zum Beispiel der Mikrosystemtechnik zu bestimmen. (de)
- The Transfer Length Method or the "Transmission Line Model" (both abbreviated as TLM) is a technique used in semiconductor physics and engineering to determine the specific contact resistivity between a metal and a semiconductor. TLM has been developed because with the ongoing device shrinkage in microelectronics the relative contribution of the contact resistance at metal-semiconductor interfaces in a device could not be neglected any more and an accurate measurement method for determining the specific contact resistivity was required. (en)
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- قياس خط النقل (ar)
- Transfer Line Methode (de)
- Transfer length method (en)
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