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Tungsten(III) oxide (W2O3) is a compound of tungsten and oxygen. It has been reported (2006) as being grown as a thin film by atomic layer deposition at temperatures between 140 and 240 °C using W2(N(CH3)2)6 as a precursor. It is not referred to in major textbooks. Some older literature refers to the compound W2O3 but as the atomic weight of tungsten was believed at the time to be 92, i.e., approximately half the modern accepted value of 183.84, the compound actually being referred to was WO3.

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  • أكسيد تنغستن ثلاثي مركب كيميائي له الصيغة W2O3 .عدد أكسدة التنغستن في هذا المركب +3. (ar)
  • Oxid wolframitý (W2O3) je jedním z oxidů wolframu, který je v něm přítomen v oxidačním stavu III. (cs)
  • L'oxyde de tungstène(III) est un composé chimique de formule W2O3. Il a été observé pour la première fois en 2006 sous la forme de couche mince obtenue par dépôt de couches atomiques (ALD) de 140 à 240 °C à partir de W2(N(CH3)2)6 comme précurseur. Il n'est généralement pas mentionné dans les grands manuels de chimie tandis que la littérature ancienne le confond parfois avec le trioxyde de tungstène WO3. Il trouve des utilisations dans la réalisation de certains revêtements absorbant le rayonnement infrarouge. (fr)
  • Tungsten(III) oxide (W2O3) is a compound of tungsten and oxygen. It has been reported (2006) as being grown as a thin film by atomic layer deposition at temperatures between 140 and 240 °C using W2(N(CH3)2)6 as a precursor. It is not referred to in major textbooks. Some older literature refers to the compound W2O3 but as the atomic weight of tungsten was believed at the time to be 92, i.e., approximately half the modern accepted value of 183.84, the compound actually being referred to was WO3. Reports about the compound date back to at least the 1970s, but only in as thin films or surfaces – no bulk synthesis of the material is known. (en)
  • 酸化タングステン(III)(さんかタングステン、tungsten(III) oxide)は、化学式 W2O3 で表される、三価のタングステンと酸素の化合物である。前駆体として W2(N(CH3)2)6 を使い、140–240°Cで薄層を成長させることができると2006年に報告された。一般的な教科書では言及されていない。いくつかの古い文献では W2O3 が記述されているが、これはタングステンの原子量が現代の値 (183.84) のおよそ半分の92とされていた時代のことであり、実際には酸化タングステン(VI) WO3 のことである。 (ja)
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  • Tungsten sesquioxide (en)
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  • أكسيد تنغستن ثلاثي مركب كيميائي له الصيغة W2O3 .عدد أكسدة التنغستن في هذا المركب +3. (ar)
  • Oxid wolframitý (W2O3) je jedním z oxidů wolframu, který je v něm přítomen v oxidačním stavu III. (cs)
  • L'oxyde de tungstène(III) est un composé chimique de formule W2O3. Il a été observé pour la première fois en 2006 sous la forme de couche mince obtenue par dépôt de couches atomiques (ALD) de 140 à 240 °C à partir de W2(N(CH3)2)6 comme précurseur. Il n'est généralement pas mentionné dans les grands manuels de chimie tandis que la littérature ancienne le confond parfois avec le trioxyde de tungstène WO3. Il trouve des utilisations dans la réalisation de certains revêtements absorbant le rayonnement infrarouge. (fr)
  • 酸化タングステン(III)(さんかタングステン、tungsten(III) oxide)は、化学式 W2O3 で表される、三価のタングステンと酸素の化合物である。前駆体として W2(N(CH3)2)6 を使い、140–240°Cで薄層を成長させることができると2006年に報告された。一般的な教科書では言及されていない。いくつかの古い文献では W2O3 が記述されているが、これはタングステンの原子量が現代の値 (183.84) のおよそ半分の92とされていた時代のことであり、実際には酸化タングステン(VI) WO3 のことである。 (ja)
  • Tungsten(III) oxide (W2O3) is a compound of tungsten and oxygen. It has been reported (2006) as being grown as a thin film by atomic layer deposition at temperatures between 140 and 240 °C using W2(N(CH3)2)6 as a precursor. It is not referred to in major textbooks. Some older literature refers to the compound W2O3 but as the atomic weight of tungsten was believed at the time to be 92, i.e., approximately half the modern accepted value of 183.84, the compound actually being referred to was WO3. (en)
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  • أكسيد تنغستن ثلاثي (ar)
  • Oxid wolframitý (cs)
  • Oxyde de tungstène(III) (fr)
  • 酸化タングステン(III) (ja)
  • Tungsten(III) oxide (en)
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